等離子刻蝕機就是用化學(xué)的、物理的或同時使用化學(xué)和物理的方法，有選擇地把沒有被抗蝕劑掩蔽的那一部分薄膜層除去，從而在薄膜上得到和抗蝕劑膜上*一致的圖形。簡單點說就是通過刻蝕技術(shù)在薄膜上繪制不同的圖形，得到工藝要求的圖案。在半導(dǎo)體工藝，等離子刻蝕機按照掩模圖形或設(shè)計要求對半導(dǎo)體襯底表面或表面覆蓋薄膜進行選擇性腐蝕或剝離的技術(shù)。

    等離子刻蝕機技術(shù)分為干法刻蝕和濕法刻蝕，濕法刻蝕主要是指化學(xué)刻蝕，干法刻蝕主要指等離子刻蝕和激光刻蝕。

    等離子刻蝕機的原理與激光打標(biāo)機相同，即通過高能量的激光光束照射到材料表面使其瞬間氣化形成圖案、文字等。而與打標(biāo)機相比要求的精度更高，對材料表面的加工精度要求也更高，通常激光刻蝕機用在觸摸屏行業(yè)內(nèi)的ITO刻蝕，銀漿刻蝕等。

    在早些年前激光刻蝕機在行業(yè)內(nèi)幾乎都統(tǒng)稱為觸摸屏激光刻蝕機，在觸摸屏行業(yè)內(nèi)得到了廣泛應(yīng)用，手機電阻屏、電容屏的發(fā)展也讓激光刻蝕機廠家發(fā)展發(fā)生了質(zhì)的變化，主要體現(xiàn)為ITO玻璃激光刻蝕、銀漿玻璃激光刻蝕等，也有一部分是ITO薄膜與銀漿薄膜刻蝕。

    而隨著手機行業(yè)的發(fā)展，OLED的崛起，觸摸屏行業(yè)的等離子刻蝕機逐漸呈現(xiàn)飽和趨勢，激光刻蝕機廠家也隨之加大對材料應(yīng)用的研發(fā)投入和應(yīng)用方向的投入，太陽能、光伏行業(yè)將會成為激光刻蝕機下一個重要發(fā)展領(lǐng)域。

    太陽能光伏行業(yè)的一些采用應(yīng)用包括金屬合金薄膜材料，如鋁薄膜，銅薄膜，鎘薄膜，合金薄膜等。也有一些玻璃鍍層和特殊材料鍍層的應(yīng)用，如碳納米玻璃材料應(yīng)用。